微影製程(photolithography)是半導體元件製造中重要的過程之一。簡單來說,就是將電路圖案透過已刻好圖案的光罩及光阻,轉印到晶圓上的過程。
這個過程,將有二氧化矽絕緣層的矽晶圓塗上光阻,透過紫外光照射,後以顯影液溶解光阻並進行蝕刻,待時刻完畢,就可在晶圓上留下特定的電路圖案。
微影製程中使用的光阻劑由樹脂、溶劑和添加劑組成,其光敏感範圍的波長介於200nm與500nm之間。因此半導體無塵室中多會選擇已過濾500nm以下紫外線波段的黃色照明光源,以防止光阻過度曝光或者提前曝光的情形發生。
大正節能科技的黃光LED燈管專為半導體無塵室設計製作,經國家實驗室認證,可過濾500nm以下紫外線波段,使得光阻劑不受光源因素影響半導體製程。
適用於具有光阻劑(Photoresist)應用之產業,如:積體電路、面板顯示器;或者博物館、圖書館、印刷產業、微影製成實驗室等具備光敏元件材料之場所等。
↑國家實驗室報告,T8 4尺LED黃光燈管光譜曲線
無塵室曝光顯影區域專用T8 4尺 LED黃光燈管認證報告連結:
https://www.best-energysaving-tech.com/tw/news/N2022033100001/news_detail.html
無塵室燈具目錄連結:
https://www.best-energysaving-tech.com/tw/news/N2022030100001/news_detail.html
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